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洛丹更新了其热电工艺恒温器组合

日期: 2020年4月26日
Слайд-35569.

热电工艺恒温器,用于半导体行业蚀刻工艺的温度控制,是劳娜综合组合的永久特征,自2014年的诺亚精密(现在是Lauda-Noah)的收购以来。现在,全球市场领导人充分了用新的“半浪”系列修改并扩展了前POU产品系列。

新的Lauda Semistat产品系列包括三种型号:Lauda的Semistat S1200是一种经济实惠的入门级设备,提供比其前代更小的占地面积 - 20°C的冷却输出为1.2千瓦。同时,新开发的半浪第2400保留了产品线的机械和液压结构。该过程温控器还采用了热电部门的最新创新,例如最新一代的高性能珀耳帖元素,可确保更高的功率密度和更高的可靠性。随着Semistat 4400,Lauda推出了全新的性能级,以4.4千瓦冷却输出到市场。该工艺恒温器专为使用300毫米晶圆的应用而设计,在低温下具有高冷却输出要求。

从-20到90°C的半导体工业的热电工艺恒温器

半导体工业中的等离子体蚀刻应用中的精密温度控制已经优化了半导体工艺恒温器。在蚀刻过程期间从晶片的表面移除定义的区域。动态温度控制器将位于等离子体蚀刻室内的晶片卡盘处于恒定温度,以防止温度漂移。恒温在维持稳定的蚀刻轮廓并产生高质量表面至关重要。 Peltier Technology实现了Semistat恒温器的两个主要优点:能源和空间节省的优势与最大的长期运行稳定性相结合。

新工艺恒温器是非常节能的,因为当需要调节蚀刻室内的温度时,它们仅控制温度并消耗能量。由于珀耳帖元件是用于加热和冷却的唯一部件,因此可以最小化恒温器的空间要求。紧凑的设计和可选的地板安装确保在成本密集的洁净室中占据最小空间。从装置到施加的小型内部流体容积和短的软管连接意味着需要更少的能量来控制流体温度。特别是温度控制流体的低体积允许快速变化。半浪费温度控制系统比基于压缩机的系统更少的能量少90%。

与其所建立的前任一样,半产品系列的工作温度范围为-20至90°C,提供±0.1k的高温稳定性。冷却输出从1.2到4.4 kW,水冷器件可用于结合各种室内和平台型号。

Lauda Semistat工艺恒温器最重要的功能

  • 压缩机和无能量消耗量的无制冷剂系统
  • 行业中最小的足迹
  • 极低的传热液
  • 使用全氟化液
  • 改进的可访问性和最小洁净室使用
  • 不需要过滤器或DI组件
  • 高可靠性和低运营成本
  • 用于易于故障排除的本地更换模块
  • 动态,稳定的温度控制在使用点
  • 稳定蚀刻型材的温度漂移防止
  • 改进了晶片到晶圆稳定性